(一)操作条件方面的差异:
1、温度不同:普通氧化18-22℃左右,有添加剂的可以到30℃,温度过高易出现粉末或裂纹;硬质氧化一般在5℃以下,相对来说温度越低硬质越高。
2、浓度差异:普通氧化一般20%左右;硬质氧化一般在15%或更低。
3、电流/电压差异:普通氧化电流密度一般:1-1.5A/dm2;而硬质氧化:1.5-5A/dm2;普通氧化电压≤18V,硬质氧化有时高达120V。一般在5℃以下,相对来说温度越低硬质越高。
(二)膜层性能方面的差异:
1、膜层厚度:普通氧化膜层厚度相对较薄;硬质氧化 一般膜层厚度>15μm,过低达不到硬度≥300HV的要求。2、表面状态:普通氧化表面较光滑,而硬质氧化 表面较粗糙(微观,和基体表面粗糙度有关)。
3、孔隙率不同:普通氧化孔隙率高;而硬质氧化 孔隙率低。
4、普通氧化基本是透明膜;硬质氧化 由于膜厚,为不透明膜。
5、适用场合不同:普通氧化适用于装饰为主;而硬质氧化 以功能为主,一般用于耐磨、耐电的场合。
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